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- 栃谷,元 (トチタニ,ゲン) https://www.lib.hokudai.ac.jp/dissertations/list/?FF=4&LANG=ja&ACCN=1103603392
論文名 | 低周波プラズマCVDによる水素化アモルファスシリコンおよびTEOSを用いたシリコン酸化膜の堆積に関する研究 |
論文名(欧文) | |
学位授与年度 | 1993 |
学位種別/学位種類 | 1(課程博士) / 036(博士(工学)) |
報告番号 | 3392 |
学位授与年月日 | 1994-03-25 |
主査/副査 | 田頭,博昭 / 酒井,洋輔 長谷川,英機 武笠,幸一 福井,孝志 |
所在 | |
配架番号 | |
備考 | |
内容の要旨と審査の要旨 | 3392_tochitani.pdf |