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- 栃谷,元 (トチタニ,ゲン) https://www.lib.hokudai.ac.jp/dissertations/list/?FF=4&LANG=en&ACCN=1103603392
Title in Japanese | 低周波プラズマCVDによる水素化アモルファスシリコンおよびTEOSを用いたシリコン酸化膜の堆積に関する研究 |
Title in English | |
Year of conferral of degrees | 1993 |
Type of degree / Kind of academic degree | 1(課程博士) / 036(博士(工学)) |
Report number | 3392 |
Date of conferral of degrees | 1994-03-25 |
The primary examiner / A deputy examiner | 田頭,博昭 / 酒井,洋輔 長谷川,英機 武笠,幸一 福井,孝志 |
Location | |
Call number | |
Comment | |
Summary | 3392_tochitani.pdf |